Method for forming ruthenium thin film by atomic layer deposition

WO2017009948 Art A1 19. Januar 2017

Anmelder: Research Cooperation Foundation of Yeungnam University, Tanaka Kikinzoku Kogyo K.K. 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017009948
Aktenzeichen: EP15898261
Anmeldetag: 14. Juli 2015
Veröffentlichung: 19. Januar 2017
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/285C23C16/44

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Research Cooperation Foundation of Yeungnam University
Tanaka Kikinzoku Kogyo K.K.
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇯🇵 Tanaka Kikinzoku Kogyo

Tanaka Kikinzoku Kogyo ist ein japanisches Unternehmen für Edelmetallverarbeitung mit Sitz in Tokio. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiter und elektrische Bauelemente, ergänzt um Fertigungs- und Verfahrenstechnik. Anmeldungen decken den Zeitraum 2000 bis 2023 ab.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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