Backing plate, sputtering target, and method for manufacturing same

WO2017010293 Art A1 19. Januar 2017

Anmelder: Sumitomo Chemical Company, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017010293
Aktenzeichen: EP16824273
Anmeldetag: 29. Juni 2016
Veröffentlichung: 19. Januar 2017
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Sumitomo Chemical Company, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Sumitomo Chemical

Japanischer Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, Teil der Sumitomo-Gruppe. Aktiv in Petrochemie, Agrochemie, Pharmazeutika, Elektronikmaterialien, Energiematerialien und Kunststoffen.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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