Process for removing contamination on ruthenium surface

WO2017011156 Art A1 19. Januar 2017

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017011156
Aktenzeichen: EP16824866
Anmeldetag: 21. Juni 2016
Veröffentlichung: 19. Januar 2017
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/22G03F7/20G03F7/004G03F7/26

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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