Far-infrared spectroscopy device

WO2017013759 Art A1 26. Januar 2017

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017013759
Aktenzeichen: EP15898918
Anmeldetag: 22. Juli 2015
Veröffentlichung: 26. Januar 2017
Rechtsraum: WO
IPC: G01J3/10G01N21/3581G02F1/37

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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