Wet etching method and etching solution
WO2017013988
Art A1
26. Januar 2017
Anmelder: Central Glass Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2017013988
- Aktenzeichen
- EP16827552
- Anmeldetag
- 22. Juni 2016
- Veröffentlichung
- 26. Januar 2017
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/308C23F1/10
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Central Glass Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Central Glass
Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, das Flachglas, Spezialglas sowie Fluorchemikalien für Industrie und Bauwesen herstellt.
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Vertreten von
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