Metal mask substrate for vapor deposition, metal mask for vapor deposition, production method for metal mask substrate for vapor deposition, and production method for metal mask for vapor deposition
WO2017014172
Art A1
26. Januar 2017
Anmelder: Toppan Printing Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2017014172
- Aktenzeichen
- EP16827732
- Anmeldetag
- 15. Juli 2016
- Veröffentlichung
- 26. Januar 2017
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C23C14/04H01L51/50H05B33/10
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Toppan Printing Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Toppan Printing
Japanischer Konzern für Druck- und Verpackungstechnologien mit Sitz in Tokio, seit 1900 tätig. Produziert zudem Displays, Halbleitermasken und Sicherheitsdrucke.
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