Metal mask substrate for vapor deposition, metal mask for vapor deposition, production method for metal mask substrate for vapor deposition, and production method for metal mask for vapor deposition

WO2017014172 Art A1 26. Januar 2017

Anmelder: Toppan Printing Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2017014172
Aktenzeichen
EP16827732
Anmeldetag
15. Juli 2016
Veröffentlichung
26. Januar 2017
Rechtsraum
WO
IPC
C23C14/04H01L51/50H05B33/10
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Toppan Printing Co., Ltd.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Toppan Printing

Japanischer Konzern für Druck- und Verpackungstechnologien mit Sitz in Tokio, seit 1900 tätig. Produziert zudem Displays, Halbleitermasken und Sicherheitsdrucke.

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