Exposure data correction device, wiring pattern formation system, and method for manufacturing wiring substrate

WO2017014190 Art A1 26. Januar 2017

Anmelder: Hitachi Chemical Company, Ltd., SCREEN Holdings Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017014190
Aktenzeichen: EP16827750
Anmeldetag: 15. Juli 2016
Veröffentlichung: 26. Januar 2017
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20H05K3/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Hitachi Chemical Company, Ltd.
SCREEN Holdings Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 SCREEN Holdings

Japanischer Technologiekonzern. SCREEN Holdings stellt Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie her, insbesondere Wafer-Reinigungs- und Beschichtungssysteme, sowie Druck- und Bildverarbeitungstechnik.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Optik & Fototechnik

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