Defect determining method and x-ray inspection device

WO2017017745 Art A1 2. Februar 2017

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017017745
Aktenzeichen: EP15899579
Anmeldetag: 27. Juli 2015
Veröffentlichung: 2. Februar 2017
Rechtsraum: WO
IPC: G01N23/18G01N23/04

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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