Photosensitive element, resin composition for forming barrier layer, method for forming resist pattern, and method for producing printed wiring board

WO2017018299 Art A1 2. Februar 2017

Anmelder: Hitachi Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017018299
Aktenzeichen: EP16830404
Anmeldetag: 20. Juli 2016
Veröffentlichung: 2. Februar 2017
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11G03F7/004H05K3/06H05K3/18

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi Chemical Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Optik & Fototechnik

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