Ag alloy film and method for producing same, ag alloy sputtering target and laminated film

WO2017018310 Art A1 2. Februar 2017

Anmelder: Mitsubishi Materials Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017018310
Aktenzeichen: EP16830415
Anmeldetag: 21. Juli 2016
Veröffentlichung: 2. Februar 2017
Rechtsraum: WO
IPC: C22C5/06C22C5/08C23C14/34C22F1/00C22F1/14

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Mitsubishi Materials Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Materials

Japanisches Unternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Sitz in Tokio, tätig in der Verarbeitung von Metallen und Werkstoffen, unter anderem Kupfer, Zement, Hartmetallwerkzeuge und elektronische Materialien.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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