Method for manufacturing two-dimensional transition metal dichalcogenide thin film

WO2017018834 Art A1 2. Februar 2017

Anmelder: Korea Research Institute Of Standards And Science 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2017018834
Aktenzeichen
EP16830867
Anmeldetag
28. Juli 2016
Veröffentlichung
2. Februar 2017
Rechtsraum
WO
IPC
C01B17/20C01G39/06
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Korea Research Institute Of Standards And Science
Land
🇰🇷 Südkorea
🇰🇷 Korea Research Institute of Standards and Science

Der Anmelder ist ein südkoreanisches staatliches Forschungsinstitut für Metrologie mit Sitz in Daejeon, bekannt als KRISS. Das Patentportfolio konzentriert sich stark auf Mess-, Prüf- und Zeitmesstechnik, ergänzt durch Halbleiterbauelemente, Software und Medizintechnik. Anmeldungen laufen seit 2002 durchgehend fort.

452 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen