Apparatus and techniques to treat substrates using directional plasma and point of use chemistry

WO2017019312 Art A1 2. Februar 2017

Anmelder: Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017019312
Aktenzeichen: EP16831030
Anmeldetag: 14. Juli 2016
Veröffentlichung: 2. Februar 2017
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/3065H05H1/46H01L21/02H01L21/3213

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc.

Varian Semiconductor Equipment Associates war ein US-amerikanischer Hersteller von Halbleiteranlagen, seit 2011 Teil von Applied Materials. Die Patente betreffen Ionenimplantation und Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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