Method for measuring pattern height and device for measuring pattern height

WO2017022004 Art A1 9. Februar 2017

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017022004
Aktenzeichen: EP15900318
Anmeldetag: 31. Juli 2015
Veröffentlichung: 9. Februar 2017
Rechtsraum: WO
IPC: G01B11/02G01B15/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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