Controlled Fluid Flow For Cleaning an Optical Element
WO2017023950
Art A2
9. Februar 2017
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2017023950
- Aktenzeichen
- EP16758314
- Anmeldetag
- 2. August 2016
- Veröffentlichung
- 9. Februar 2017
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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