Focus metrology and targets which utilize transformations based on aerial images of the targets
WO2017024158
Art A1
9. Februar 2017
Anmelder: Kla-Tencor Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2017024158
- Aktenzeichen
- EP16833886
- Anmeldetag
- 4. August 2016
- Veröffentlichung
- 9. Februar 2017
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/66H01L21/027
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Kla-Tencor Corporation
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
KLA Corporation
US-amerikanisches Unternehmen (frühere Firmierung KLA-Tencor), das Prozesskontroll- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung entwickelt.
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