Sputtering apparatus and film formation method

WO2017026343 Art A1 16. Februar 2017

Anmelder: Nissin Electric Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017026343
Aktenzeichen: EP16835040
Anmeldetag: 3. August 2016
Veröffentlichung: 16. Februar 2017
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34C23C14/06

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nissin Electric Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissin Electric

Nissin Electric ist ein japanischer Hersteller elektrischer Anlagen und Halbleiterfertigungsausrüstung mit Sitz in Kyoto. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleitertechnik und Metallurgie, ergänzt durch Schaltungs- und Energietechnik. Die Anmeldungen stammen aus den Jahren 2000 bis 2025.

274 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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