Cyclic compound, method for producing same, photoresist composition including said cyclic compound and method for producing same, and resist pattern formation method using said composition

WO2017026377 Art A1 16. Februar 2017

Anmelder: Yamaguchi University, Meiwa Plastic Industries, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017026377
Aktenzeichen: EP16835074
Anmeldetag: 4. August 2016
Veröffentlichung: 16. Februar 2017
Rechtsraum: WO
IPC: C07C39/17C07C37/20G03F7/004G03F7/038

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Yamaguchi University
Meiwa Plastic Industries, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Yamaguchi University

Die Yamaguchi University ist eine japanische staatliche Universität. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Pharma und Medizintechnik, ergänzt um organische Chemie, Halbleiter- und Messtechnik sowie Verfahrenstechnik. Die Anmeldungen decken ein breites Spektrum von Geopolymer-Baustoffen bis zu Halbleitermaterialien wie Galliumoxid ab.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Organische Chemie

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