System and method for controlling source laser firing in an lpp euv light source

WO2017027386 Art A1 16. Februar 2017

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017027386
Aktenzeichen: EP16835698
Anmeldetag: 5. August 2016
Veröffentlichung: 16. Februar 2017
Rechtsraum: WO
IPC: A61N5/06

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Medizintechnik & Gesundheit

Vertreten von