Target Expansion Rate Control in an Extreme Ultraviolet Light Source

WO2017027566 Art A1 16. Februar 2017

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017027566
Aktenzeichen: EP16835821
Anmeldetag: 10. August 2016
Veröffentlichung: 16. Februar 2017
Rechtsraum: WO
IPC: H05G2/00H01S3/10H01S3/08H01S3/09H01S3/102H01S3/115H01S3/117

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇺🇸 USA

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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