Suppression filter, radiation collector and radiation source for a lithographic apparatus; method of determining a separation distance between at least two reflective surface levels of a suppression filter

WO2017032569 Art A1 2. März 2017

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017032569
Aktenzeichen: EP16745755
Anmeldetag: 2. August 2016
Veröffentlichung: 2. März 2017
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G02B5/20G02B5/28G02B5/18G02B27/42

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von