Charged particle beam device and sample stage alignment adjustment method

WO2017033591 Art A1 2. März 2017

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017033591
Aktenzeichen: EP16838938
Anmeldetag: 8. Juli 2016
Veröffentlichung: 2. März 2017
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/22H01J37/20H01J37/24H01J37/28

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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