Method for manufacturing anti-reflective surface using plasma etching, and substrate having anti-reflective surface formed thereon

WO2017034262 Art A1 2. März 2017

Anmelder: Ceko Co., Ltd., Korea Institute of Machinery & Materials 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017034262
Aktenzeichen: EP16839551
Anmeldetag: 22. August 2016
Veröffentlichung: 2. März 2017
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/3065H01L31/0216H01L21/56

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Ceko Co., Ltd.
Korea Institute of Machinery & Materials
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Korea Institute of Machinery & Materials

Das Korea Institute of Machinery & Materials ist ein staatliches südkoreanisches Forschungsinstitut für Maschinenbau und Werkstofftechnik. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Werkzeug-, Fertigungs- und Drucktechnik sowie Halbleiter und elektrische Bauelemente, ergänzt durch Verfahrenstechnik und Messtechnik. Anmeldungen erstrecken sich von 2000 bis 2025.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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