Methods to improve in-film particle performance of amorphous born-carbon hardmask process in pecvd system

WO2017034687 Art A1 2. März 2017

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017034687
Aktenzeichen: EP16839762
Anmeldetag: 8. Juli 2016
Veröffentlichung: 2. März 2017
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/32C23C16/02C23C16/44C23C16/505

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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