Method for etching a silicon-containing substrate

WO2017035120 Art A1 2. März 2017

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017035120
Aktenzeichen: EP16839973
Anmeldetag: 23. August 2016
Veröffentlichung: 2. März 2017
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/3065H01L21/3213H01L21/02H01L21/033H01L29/78

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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