Mask blank, phase shift mask, phase shift mask manufacturing method, and semiconductor device manufacturing method

WO2017038213 Art A1 9. März 2017

Anmelder: HOYA Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017038213
Aktenzeichen: EP16841245
Anmeldetag: 20. Juni 2016
Veröffentlichung: 9. März 2017
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/26G03F1/48G03F1/80G03F1/84

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HOYA Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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