Hydrogen gas recovery system and hydrogen gas separation and recovery method

WO2017038346 Art A1 9. März 2017

Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017038346
Aktenzeichen: EP16841378
Anmeldetag: 2. August 2016
Veröffentlichung: 9. März 2017
Rechtsraum: WO
IPC: C01B3/56B01J20/18B01J20/20B01J20/34C01B33/035C01B39/44B01D53/68B01D53/72B01D53/75B01D53/78B01D53/82B01D53/96

Offizieller Volltext

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Anmelder

Firma: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Verfahrens- & Trenntechnik

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