Method for producing polycrystalline silicon rod, and method for producing fz single-crystal silicon
WO2017038347
Art A1
9. März 2017
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2017038347
- Aktenzeichen
- EP16841379
- Anmeldetag
- 2. August 2016
- Veröffentlichung
- 9. März 2017
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C01B33/035C30B29/06
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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