Positive-type photosensitive resin composition, uncured resin pattern formed with said resin composition, cured resin pattern, semiconductor device in which same is used, and method for manufacturing same

WO2017038828 Art A1 9. März 2017

Anmelder: Toray Industries, Inc. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017038828
Aktenzeichen: EP16841859
Anmeldetag: 30. August 2016
Veröffentlichung: 9. März 2017
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/023C08G73/10G03F7/40

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Toray Industries, Inc.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Toray Industries

Japanischer Chemie- und Materialkonzern mit Sitz in Tokio. Toray entwickelt Kohlefasern, synthetische Fasern, Kunststoffe, Chemikalien sowie Materialien für Textil-, Automobil-, Elektronik- und Luftfahrtindustrie.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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