Method of manufacturing a substrate with reduced threading dislocation density

WO2017039547 Art A1 9. März 2017

Anmelder: Nanyang Technological University, Massachusetts Institute of Technology 🇸🇬

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017039547
Aktenzeichen: EP16842438
Anmeldetag: 2. September 2016
Veröffentlichung: 9. März 2017
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/20H01L21/18H01L21/324H01L31/0264C30B25/14C30B1/02C23C16/455

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Nanyang Technological University
Massachusetts Institute of Technology
Land: 🇸🇬 Singapur

🇸🇬 Nanyang Technological University

Die Nanyang Technological University ist eine staatliche Forschungsuniversität in Singapur, die in den Bereichen Ingenieurwissenschaften, Naturwissenschaften und Technologie international hoch angesehen ist.

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🇺🇸 Massachusetts Institute of Technology

US-amerikanische Universität mit Sitz in Cambridge, Massachusetts, eine der weltweit führenden Forschungseinrichtungen. Aktiv in nahezu allen technischen und naturwissenschaftlichen Feldern, darunter Informatik, Ingenieurwesen, Materialwissenschaften und Biotechnologie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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