Model-based metrology using images

WO2017040219 Art A1 9. März 2017

Anmelder: KLA-Tencor Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2017040219
Aktenzeichen
EP16842656
Anmeldetag
25. August 2016
Veröffentlichung
9. März 2017
Rechtsraum
WO
IPC
G06T7/00G01N21/95
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
KLA-Tencor Corporation
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 KLA Corporation

US-amerikanisches Unternehmen (frühere Firmierung KLA-Tencor), das Prozesskontroll- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung entwickelt.

495 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Software & Datenverarbeitung

Vertreten von

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