Method for producing sic epitaxial wafer and apparatus for producing sic epitaxial wafer

WO2017043282 Art A1 16. März 2017

Anmelder: Showa Denko K.K. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017043282
Aktenzeichen: EP16844145
Anmeldetag: 18. August 2016
Veröffentlichung: 16. März 2017
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/205C23C16/42C23C16/455C30B25/14C30B29/36

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Showa Denko K.K.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Showa Denko

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, seit 2023 als Resonac Holdings firmierend. Aktiv in Petrochemie, Elektronikmaterialien, Batteriematerialien sowie Halbleiterchemikalien.

2.327 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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