Photosensitive resin composition, photosensitive sheet, semiconductor device, and method for manufacturing semiconductor device

WO2017043375 Art A1 16. März 2017

Anmelder: Toray Industries, Inc. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017043375
Aktenzeichen: EP16844236
Anmeldetag: 30. August 2016
Veröffentlichung: 16. März 2017
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/023G03F7/033G03F7/037

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Toray Industries, Inc.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Toray Industries

Japanischer Chemie- und Materialkonzern mit Sitz in Tokio. Toray entwickelt Kohlefasern, synthetische Fasern, Kunststoffe, Chemikalien sowie Materialien für Textil-, Automobil-, Elektronik- und Luftfahrtindustrie.

3.791 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von