Method for treating inner layer of printed circuit board

WO2017043848 Art A1 16. März 2017

Anmelder: Korea Institute Of Industrial Technology 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017043848
Aktenzeichen: EP16844666
Anmeldetag: 7. September 2016
Veröffentlichung: 16. März 2017
Rechtsraum: WO
IPC: H05K3/38H05K3/20C07F7/02C07F7/18

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Korea Institute Of Industrial Technology
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Korea Institute of Industrial Technology

Das Korea Institute of Industrial Technology (KITECH) ist eine südkoreanische staatliche Forschungseinrichtung für angewandte Industrietechnik. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Fertigungs- und Drucktechnik sowie Metallurgie und Halbleitertechnik, ergänzt durch Verfahrenstechnik. Anmeldungen sind von 2002 bis in die Gegenwart belegt.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Organische Chemie

Vertreten von