One-piece process kit shield for reducing the impact of an electric field near the substrate
WO2017044791
Art A1
16. März 2017
Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2017044791
- Aktenzeichen
- EP16845147
- Anmeldetag
- 9. September 2016
- Veröffentlichung
- 16. März 2017
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/203H01L21/02H01L21/67H01L21/687
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Applied Materials, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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