Alignment sensor for lithographic apparatus
WO2017045874
Art A1
23. März 2017
Anmelder: ASML Netherlands B.V., ASML Holding N.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2017045874
- Aktenzeichen
- EP16754507
- Anmeldetag
- 23. August 2016
- Veröffentlichung
- 23. März 2017
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F9/00G02B6/293H04J14/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- ASML Netherlands B.V.
ASML Holding N.V. - Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Vertreten von
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