Substrate processing device, substrate processing method, and storage medium

WO2017047355 Art A1 23. März 2017

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017047355
Aktenzeichen: EP16846226
Anmeldetag: 26. August 2016
Veröffentlichung: 23. März 2017
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027B05C9/14B05C11/08B05D1/36B05D3/00G01B11/02G03F7/26

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik Verfahrens- & Trenntechnik

Vertreten von