Optische Korrekturanordnung, Projektionsobjektiv mit einer Solchen Optischen Korrekturanordnung sowie Mikrolithografische Apparatur mit einem Solchen Projektionsobjektiv
WO2017050565
Art A1
30. März 2017
Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2017050565
- Aktenzeichen
- EP16762780
- Anmeldetag
- 6. September 2016
- Veröffentlichung
- 30. März 2017
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G02B26/06G03F7/20G02B27/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Carl Zeiss SMT GmbH
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Carl Zeiss SMT
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
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