Exposure method, method for manufacturing microperiodical structure, method for manufacturing grid polarizer elements, and exposure equipment
WO2017051443
Art A1
30. März 2017
Anmelder: Ushio Denki Kabushiki Kaisha 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2017051443
- Aktenzeichen
- EP15904700
- Anmeldetag
- 24. September 2015
- Veröffentlichung
- 30. März 2017
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Ushio Denki Kabushiki Kaisha
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Ushio Inc.
Japanischer Hersteller von Lichtquellen wie Speziallampen, Lasern und LED-Modulen für Industrie, Halbleiterfertigung und Optik mit Sitz in Tokio.
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