System for flat-top intensity laser sheet beam generation

WO2017052721 Art A1 30. März 2017

Anmelder: INTEL Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017052721
Aktenzeichen: EP16849140
Anmeldetag: 15. Juli 2016
Veröffentlichung: 30. März 2017
Rechtsraum: WO
IPC: G02B27/09H01S3/10

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: INTEL Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Intel

US-amerikanischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Kalifornien. Entwickelt und produziert Prozessoren, Chipsätze sowie weitere Halbleiterkomponenten für Computer, Server und eingebettete Systeme.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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