Methods of modelling systems or performing predictive maintenance of lithographic systems

WO2017055073 Art A1 6. April 2017

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017055073
Aktenzeichen: EP16765962
Anmeldetag: 13. September 2016
Veröffentlichung: 6. April 2017
Rechtsraum: WO
IPC: G05B23/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Steuerungs- & Regelungstechnik

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