Charged particle beam device

WO2017056171 Art A1 6. April 2017

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017056171
Aktenzeichen: EP15905326
Anmeldetag: 29. September 2015
Veröffentlichung: 6. April 2017
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/22H01J37/147

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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