Photosensitive resin composition, photosensitive element, method for forming resist pattern and method for manufacturing touch panel

WO2017056530 Art A1 6. April 2017

Anmelder: Hitachi Chemical Company, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017056530
Aktenzeichen: EP16850708
Anmeldetag: 28. März 2016
Veröffentlichung: 6. April 2017
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004G03F7/027G03F7/40G06F3/041H05K3/06

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi Chemical Company, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung

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