Film-forming composition for semiconductor substrate cleaning, and method for cleaning semiconductor substrate

WO2017056746 Art A1 6. April 2017

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017056746
Aktenzeichen: EP16850923
Anmeldetag: 9. August 2016
Veröffentlichung: 6. April 2017
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/304C11D3/37C11D3/43C11D17/04

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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