Methods for pre-cleaning conductive interconnect structures

WO2017058567 Art A1 6. April 2017

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2017058567
Aktenzeichen
EP16852314
Anmeldetag
20. September 2016
Veröffentlichung
6. April 2017
Rechtsraum
WO
IPC
C23G5/04C23G5/032C23G3/00C11D7/26C11D17/00H05K3/26
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Applied Materials, Inc.
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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