Topography measurement system

WO2017060014 Art A1 13. April 2017

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017060014
Aktenzeichen: EP16760106
Anmeldetag: 5. September 2016
Veröffentlichung: 13. April 2017
Rechtsraum: WO
IPC: G01B11/25G01B11/06G01B11/24G01N21/21G03F7/20H01L21/66

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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