Method and apparatus for inspection and metrology

WO2017060087 Art A1 13. April 2017

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017060087
Aktenzeichen: EP16774889
Anmeldetag: 21. September 2016
Veröffentlichung: 13. April 2017
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G03F9/00G02B21/24G01N21/956

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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