Conformal Doping in 3D Si Structures Using Conformal Dopant Deposition

WO2017065880 Art A1 20. April 2017

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017065880
Aktenzeichen: EP16855896
Anmeldetag: 26. August 2016
Veröffentlichung: 20. April 2017
Rechtsraum: WO
IPC: H01L29/78H01L29/66H01L21/324H01L29/417

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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