Method and apparatus to correct for patterning process error

WO2017067756 Art A1 27. April 2017

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017067756
Aktenzeichen: EP16770927
Anmeldetag: 27. September 2016
Veröffentlichung: 27. April 2017
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G03F1/72G03F1/70

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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