Surface acoustic wave device and associated production method

WO2017068268 Art A1 27. April 2017

Anmelder: Soitec 🇫🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017068268
Aktenzeichen: EP16795120
Anmeldetag: 17. Oktober 2016
Veröffentlichung: 27. April 2017
Rechtsraum: WO
IPC: H03H3/10H03H9/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Soitec
Land: 🇫🇷 Frankreich

🇫🇷 Soitec

Französischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Bernin, spezialisiert auf Silicon-on-Insulator (SOI) Substrate. Patente decken Halbleitermaterialien und Waferbondtechnik ab.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik

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