Film formation apparatus and film formation method

WO2017069221 Art A1 27. April 2017

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017069221
Aktenzeichen: EP16857534
Anmeldetag: 20. Oktober 2016
Veröffentlichung: 27. April 2017
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/12C23C14/24

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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